行业动态

聚焦行业动态,洞悉行业发展

真空甩带炉的结构有哪些
发布时间:2021-11-11   浏览:4110次

  真空甩带炉的结构有哪些

  真空甩带炉采用耐热钢制造的真空罐放入电阻炉中,根据真空热处理工艺的需要,配接适当的真空系统,即成为筒单的真空热处理炉。是由电阻炉,真空罐硬和真空泵真空闷门、真空计等构成的真空系统。其热源在真空的外部,也就是电热元件设置在真空罐的外部,工件放在真空罐的内部,靠间接加热。以下是烧结炉的几种结构:

真空甩带炉

  1.钟罩式结构

  这种结构的真空缺座落在炉底上,整个炉底和真空罐可以借助于电动或液压传动升降,以完成装出料操作并能缩短冷却时间。也可以采取真空罐和炉底固定不动,罩式炉体升降的方法来完成进出料操作等,但是炉体升降较为复杂。真空甩带炉厂家建议采用哪一种方法,要根据现场实际情况而定。

  2.双真空结构

  这种结构不仅真空罐内部被抽成真空,而且真空罐外部的炉体部分也被抽成真空。这样,就可以减少真空镶承受的压力,避免真空罐外壁氧化和变形,延长了真空罐的使用寿命。

  在使用时还要注意,真空罐是真空甩带炉的关键性部件。由于真空罐须在高温和一个大气压的外压条件下工作,所以,真空罐的材料应具备良好的热稳定性和耐氧化性,间接性能要好,焊缝不易产生气孔、开裂,保证高温气密性。材料成分中的元素蒸气压要低,防止合金元素在高温、高真空下挥发。

免责声明:本站部分图片和文字来源于网络收集整理,仅供学习交流,版权归原作者所有,并不代表我站观点。本站将不承担任何法律责任,如果有侵犯到您的权利,请及时联系我们删除。

相关推荐

12 April 2021
气相沉积炉的特点是什么

气相沉积炉的特点是什么

  气相沉积炉的特点是什么   气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。   设备特点在于:(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层,特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献,作为一种新技术是大有前途的。   下面小编详细列举几条炉子的特点,以便大家能更好的了解炉子的性能。   气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m,能满足超大型工件化学气相沉积处理需求;并且,采用多温区独立控温,温度均匀性好;   与此同时采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;   气相沉积炉采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;   气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。