浅谈真空甩带炉的2种抽真空方式 　　真空甩带炉是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。 　　1)抽低真空： 　　a)将机械泵拉杆逆时针旋转一下轻轻外拉至不能拉动再顺时针旋转一下锁定； 　　b)等待真空甩带炉的真空表指针为“-0.1”后按下ZDF-2F复合真空计左表头的红色按钮，等待将腔内真空抽至低于中间档3Pa，同时继续紧固腔门上的螺丝。(注意：若超过5分钟未能将真空抽至低于3Pa，请将拉杆按a)步骤所示手法推进2分钟后再拉出) 　　2)抽高真空： 　　a)当真空甩带炉炉腔内真空低于3Pa后，将机械泵拉杆推进并顺时针旋转锁定； 　　b)将扩散泵阀门开关手柄逆时针旋转180°至“开”； 　　c)当左表头指针低于0.2Pa后，按下右表头上的绿色按钮，并按真空甩带炉的复位按钮一次运行高真空表； 　　d)根据真空熔炼炉情况依次更换量程，查看腔内真空度。注意：在当前量程内，若指针高于“1”严禁更换到更小量程查看真空度

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。