真空甩带炉的结构特点　　真空甩带炉是一种常用于半导体、光电子、新材料等领域的热处理设备，具有以下结构特点：　　1.炉体结构：真空甩带炉的炉体结构通常采用立式设计，由炉膛、耐热隔热层和外壳组成。炉膛内部通常采用高温合金材料或陶瓷材料制成，能够承受高温和真空环境。　　2.甩带机构：真空甩带炉中的主要部件是甩带机构。甩带机构由驱动装置、输送带和张紧装置组成。输送带采用耐高温的合金材料制成，并通过驱动装置带动输送带进行循环运动，以实现物料的连续输送和热处理。　　3.加热系统：真空甩带炉的加热系统通常采用电阻加热器、感应加热器或辐射加热器等方式。根据热处理要求，加热系统可提供各种加热方式和分区控制，以实现对物料的精确控温。　　4.真空系统：真空甩带炉的真空系统用于提供所需的真空环境。真空系统包括真空泵、真空计、气体冷凝器等设备，能够实现高真空或中真空处理。　　5.控制系统：真空甩带炉配备先进的控制系统，可对温度、气氛、输送速度、真空度等参数进行实时监控和调节。控制系统通常采用PLC、触摸屏等自动化设备，实现精确的热处理过程控制和数据记录。　　总体而言，真空甩带炉具有结构紧凑、操作方便、加热均匀、真空度高等特点。它可以实现对物料的连续处理和精确控温，广泛应用于高温热处理、石墨化、脱气、退火等工艺过程。但是，具体结构特点还会受到不同制造商的设计和技术水平的影响，因此在选择和使用真空甩带炉时，还应考虑到实际需求和设备的性能指标。

   根据温度场分布方程可知，真空熔炼炉整个温度场的分布主要取决于几个方面的约束。即材料的平均导热系数入，材料的平均密度P和平均比热熔度。 　　影响真空熔炼炉温度向外传递的因素，包括以下3点： 　　在该设计中，主要采用内热源形式。真空熔炼炉内部热源发热，温度由里至外传递。其强度大小直接影响炉内温度分布情况。可以看出，当内热源吼越高时，一定点的温度越高，同时一定温差(△T)的分布区域(r)越大。所以，在实际生产过程中，可以通过控制炉芯的表面负荷亦即炉芯功率控制炉内温度分布。 　　反应料距炉芯的距离(△r)，当炉芯功率一定时，即内热源的强度一定时，距离炉芯越远的反应料，温度越低，可能无法达到反应所需温度。距离真空熔炼炉炉芯越近，温度越高，越利于反应进行。 　　另外，真空熔炼炉料的散热性能越好，内部热量向外流失越快，热量很轻易就损耗在反应料之外，使一定点的温度降低。但是，如果反应料的散热性能不好，则利于热量的汇聚，使得热量向外传递时间加长，有利于反应料对热量的吸收和反应地进行，提高一定点的温度。应都在高真空条件下(4～13Pa)进行，反应温度1200℃左右，芯温度很快就能达到所需值，因此反应时间的长短取决于反应料的厚度，即炉芯外围反应料到炉体保温层的距离。可以通过设计炉体尺寸控制供电时间。