气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　真空熔炼炉基本的操作步骤 　　真空熔炼炉利用电极电弧产生的高温熔炼矿石和金属的电炉。气体放电形成电弧时能量很集中，弧区温度在3000℃以上。对于熔炼金属，电弧炉比其他炼钢炉工艺灵活性大，能有效地除去硫、磷等杂质，炉温容易控制，设备占地面积小，适于优质合金钢的熔炼。 　　真空熔炼炉主要分为三个部分，抽真空部分，熔炼部分和吸铸部分，其基本原理是利用炉体内和铜模具之间的压力差将坩埚中的液态金属压入到铜模中，利用循环水冷却和铜良好的散热性达到使液态金属快速冷却凝固，制备非晶态合金，其基本的操作步骤如下： 　　准备阶段 　　1. 打开炉体，将坩埚与两极清洗干净，用吹风机吹干。 　　2. 将待熔炼金属放入坩埚中，关闭炉体，均匀拧紧各紧固件。检查各设备各个阀门处于关闭状态。 　　3. 打开电源总闸，循环水阀门;依次打开真空熔炼炉设备上循环水电源开关，电源开关，待设备运行稳定。打开控制柜***下方的分子泵电源开关。 　　抽真空阶段 　　1. 设备稳定后，打开炉体阀门与机泵开关电源，按红色指示器按钮(名称)启动压力显示 屏，进行***级抽真空。 　　2. 在设备抽真空的过程中利用拧紧扳手均匀拧紧炉体盖上各个紧固件及炉体下部的密封 件。 　　3. 等炉体内压力达到初级设定之后(此时左侧显示屏显示数字)，依次打开分子泵阀门， 分子泵开关;关闭炉体阀门，关闭机泵开关，利用分子泵进行第二级抽真空。 　　4. 等真空熔炼炉炉体内压力达到设定之后(此时右侧侧显示屏显示数字)，依次关闭分子泵阀门， 分子泵按钮开关，关闭红色指示器按钮(名称)。设备抽真空完毕。 　　5. 打开放气阀门向抽完真空的炉体内冲入高纯氩气到一个大气压左右。 　　6. 重复1-3步骤2到3次保证真空甩带炉炉体内不含有残留空气。