石墨化炉使用温度是多少　　石墨化炉常用于3000℃以内的高温炉。用于各种高导热石墨膜(PI膜)、锂电池正极材料、碳素材料的碳化石墨化，生产碳素材料。碳丝和其他可在碳环境中烧结的材料的成型石墨化。　　石墨化炉的工作环境是真空置换Ar2.N2保护(微正压)。　　测温:远红外光学测温范围为1000~3000℃或0~3000℃;测温精度:0.2~0.75%。　　温度控制:程序控制和手动控制;温度控制精度:±1℃　　石墨化炉采用中频电源感应加热，效率高:独特的炉膛设计大大提高了炉温均匀性。升温速率:200℃/min(空炉，视高温区体积和炉子结构而定)，炉温均匀性±10℃，控温精度±1℃。　　八佳石墨化炉低能耗:双层氧化铝保温材料隔热耐火性能好，热损失小，升温速度快。但是，也提醒大家，易损件的使用，坩埚底部垫有高强度硬质复合毡，保证石墨坩埚在高温下受力均匀，比同类产品使用寿命长1.3倍。

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。