气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　真空烧结炉产品特点介绍 　　真空烧结炉的使用很广泛，今天我们就和大家介绍下它的特点。 　　1·一体化设计，结构紧凑，外形美观，自带驸马论脚轮，移机搬迁方便快捷 　　2·采用底部电动升降，结构精巧，方便，移动平稳装卸料方便 　　3·采用触摸屏+plc控制方式，自动化程度高，操作直观，功能强大。 　　4·在触摸屏内可预存几十种烧结工艺，一次编辑，以后直接调用使用，省去多次编辑工艺的麻烦，避免输入错误，烧坏产品。 　　5·烧结的温度，真空度，等数据可实时记录，也可随时启动停止记录，减少无用数据，数据可查询，可导出下载。 　　6·烧结温度高，用钼丝发热体，可达1600℃。 　　7·自带水冷机，省去客户做水路工程的麻烦。 　　真空烧结炉设备参数 　　1·设备总功率：40Kw;电源电压：3相380V,50Hz 　　2·温度：2000℃ 　　3·额定温度：0~2000℃ 　　4·冷态极限真空度：6.67×10E-2Pa(机械泵+罗茨泵)6.67×10E-3Pa(机械泵+扩散泵)5.0×10E-4Pa(机械泵+分子泵) 　　5·压升率：≦2pa/h