真空甩带炉主要功能体现是在哪些部件中 　　真空甩带炉结构形式多为立式、下出料方式。其主要组成为：电炉本体、真空系统、水冷系统、气动系统、液压系统、进出料机构、底座、工作台、感应加热装置(钨加热体及***保温材料)、进电装置、中频电源及电气控制系统等。 　　整个自动控制系统中，真空甩带炉起到核心处理的作用，具体的内容如下三点： 　　1、与触摸屏的通信程序。通过从触摸屏读取操作命令和参数的设定值，并转化成真空甩带炉运算所使用的数据类型;把工艺参数和各工位的运行状态返回触摸屏。 　　2、逻辑处理程序。真空甩带炉根据采集到的信号进行逻辑判断，发出对系统和各工位运行状态的控制信号。完成料车的运输，真空泵抽真空，各个阀的开关，加热给定，风机冷却，炉体的充气等工作。 　　3、故障报警功能：针对工艺要求，真空熔炼炉进行钎焊炉温度显示异常(过低或超温)、热电偶损坏或断路等故障报警功能，当有异常或故障出现时，现场故障报警信号灯和触摸屏对应于故障点的温度显示信号将会同时出现闪动，以提醒操作人员及时对钎焊炉温度进行调整或对故障进行处理。

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。