气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　真空甩带炉的内胆材质 　　真空甩带炉是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的专用设备。 　　真空甩带炉外壳采用优质钢板及型钢组焊而成，炉堂采用304不锈钢材质制作而成，外围设置加强筋以减少高温变形。炉体左、右、后三面加热，能有效地保证炉膛内的温场均匀度，使炉膛有效使用区间的温度更加均衡，维修方便简单。 　　真空甩带炉炉口设有快速压紧装置、硅橡胶密封条方便开关、密封炉门。 　　炉口循环水冷却装置，保护密封条。底部支架由型钢焊接，确保能承受住炉体的重量。 　　真空甩带炉箱式一体结构，所有管路、真空泵、电器安置在内部，外观整洁、美观大方，外壳采用烤漆喷塑处理。