真空烧结炉的热处理作用是什么 　　真空烧结炉在模具生产中发挥着不可替代的作用，主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。真空炉的真空热处理几乎可实现全部热处理工艺，如淬火、退火、回火、渗碳、氮化，在淬火工艺中可实现气淬、油淬、硝盐淬火、水淬等，还可以进行真空钎焊、烧结、表面处理等。真空炉热效率高，可实现快速升温和降温，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。 　　一般来说，被处理的工件在真空烧结炉炉内加热缓慢，内热温差较小，热应力小，因而变形小。产品合格率高。可降低成本，有除气作用，从而提高了工作的机械性能和使用寿命。工作环境好，操作安全，没有污染和公害。 　　被处理的工件没有危险，真空热处理工艺的稳定性和重复性好。由于真空烧结炉的这一系列的优点，开发真空热处理设备和工艺被越来越重视和应用越来越广。 　　另外，真空甩带炉厂家表示，真空热处理即真空技术与热处理两个***相结合的综合技术，是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的。我国将真空划分为低、中、高和超高真空。

　　真空烧结炉的用途及分类 　　真空烧结炉主要用于粉末冶金制品、金属注射成型制品、不锈钢基、硬质合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、钕铁硼等的烧结。 　　真空炉的分类主要有两种： 　　一种是以温度分为普通烧结炉(1300℃及以下)，中温烧结炉(1300℃~1600℃)、高温烧结炉(1600℃~2400℃)。 　　另一种是以真空度的高低来划分，可分为低真空、高真空和超高真空烧结炉。 　　用途及特点： 　　真空烧结炉主要应用于特种陶瓷(碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅结合碳化硅等)、高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，更适用于碳化硅(SiSIC)制品的重结晶烧成工艺，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。 　　真空甩带炉采用中频电源加热原理，有效避免了电阻内热真空炉的高温绝缘问题，因此在2000℃~2400℃的温度段相比电阻炉的有较大的优势。