气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　真空甩带炉的安全操作须知有哪些呢 　　在真空甩带炉生产车间的工作需要用心去做的，稍大意就会对生命安全造成不可估量的后果。厂房里面的实验电炉、高温电炉、管式炉、真空炉的师傅们在上岗前都是要经过培训并且具有一定经验的，可见生产流程的严谨性，那么在真空炉的具体操作上究竟怎么做才能将危险点降到zui低呢? 　　操作真空炉的师傅们都知道起动真空炉电源，将控制柜开关设置在自动控制位置处。将真空甩带炉工艺规程的各参数输入计算机。按工艺要求选择好真空炉的冷却介质和冷却方式及压力。按下循环起动钮，设备执行程序：抽真空--加热--冷却自动完成。 　　记得要随时检查设备各系统运行是否正常，如有异常及时报告领班处理。在出真空甩带炉前，应恢复炉内正常压力，指示灯正常后打开炉门(盖)。卸料时，应仔细操作，工件和工装等均不得碰撞炉口。 　　另外，正是在真空熔炼炉稳定设备的前提下，性能优化的脱碳新工艺，通过总结和分析了碳氧利用率和铝脱氧和合金化的收益率，发现一些经验公式，真空时间大大减少，生产速度加快，提高产品的质量。